碳酰氟制備方法較多，主要有：一氧化碳電解氟化法、一氧化碳氟氣氟化法、二氧化碳氟氣氟化法、光氣氟化法、二氟一氯甲烷（R22）/三氟甲烷（R23）光氧化法、全氟烷基碘與氧氣反應法、四氟乙烯（TFE）氧氣氧化法等。其中，一氧化碳氟氣氟化法反應條件溫和，可連續(xù)生產(chǎn)，轉化率高，應用較多；四氟乙烯法轉化率高、選擇性好，適于產(chǎn)業(yè)化，但相較前者原材料成本較高。碳酰氟，分子式為CF2O，也稱為氟光氣、羰基氟、氟化羰，常溫常壓下外觀為無色氣體狀，可加壓液化，便于儲存，有刺激性，有毒性，有強腐蝕性。碳酰氟可溶于乙醇，可溶于水，遇水可水解排放出劇毒氟化氫、二氧化碳氣體，不可燃，遇高溫可分解，分解產(chǎn)物為四氟化碳、二氧化碳，在密閉容器中有爆炸危險。

碳酰氟應用領域包括有機合成原料、有機合成中間體、有機合成氟化劑以及有機合成的純化與干燥等方面。高純碳酰氟可應用于半導體產(chǎn)業(yè)中，用作晶圓蝕刻劑、半導體設備清洗劑。碳酰氟的ODP（消耗臭氧潛能值）為零，GWP（全球變暖潛能值）低，是一種環(huán)保性好的氣體，在全球半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大背景下，其需求持續(xù)增長，是主要電子氣體產(chǎn)品之一。在全球范圍內，日本是最早在半導體產(chǎn)業(yè)中應用碳酰氟，并最早規(guī)?；a(chǎn)電子級高純碳酰氟的國家?，F(xiàn)階段，日本碳酰氟生產(chǎn)商主要有關東化學、昭和電工等。為滿足半導體產(chǎn)業(yè)需求，我國碳酰氟研究不斷深入，相關研究機構和企業(yè)主要有核工業(yè)理化工程研究院等。但目前，我國尚未實現(xiàn)碳酰氟大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)，所處在小試生產(chǎn)階段，整體來看，與日本相比，我國碳酰氟行業(yè)發(fā)展緩慢，布局企業(yè)數(shù)量少，未來還有較大進步空間。

電子氣體產(chǎn)品種類多，除少數(shù)產(chǎn)品用量較大外，大部分單一產(chǎn)品用量小，但較多產(chǎn)品具有較高的不可替代性。早期，我國電子氣體市場對外依賴度大，在我國半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)擴大、生產(chǎn)技術不斷進步情況下，我國電子氣體國產(chǎn)替代步伐加快，較多細分市場國產(chǎn)化率不斷提高。由此來看，未來我國碳酰氟將逐步實現(xiàn)自主生產(chǎn)，下游市場需求大小是推動碳酰氟自主生產(chǎn)速度快慢的主要因素。