氯化氫HCL氣體產(chǎn)品介紹工藝路線和市場發(fā)展趨勢分析
- 發(fā)布時間:2022-10-07
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氯化氫是無色氣體,有窒息性的氣味,對上呼吸道有強刺激,對眼、皮膚、黏膜有腐蝕。密度大于空氣。熔點-114.2℃,沸點-85℃,空氣中不燃燒,熱穩(wěn)定,到約1500℃才分解。氯化氫極易溶于水,在0℃時,1體積的水大約能溶解500體積的氯化氫,其水溶液通常稱為鹽酸。用途:無機化工工業(yè)上,用于生產(chǎn)鹽酸;半導(dǎo)體工業(yè)中,用于蝕刻半導(dǎo)體晶體和通過三氯硅烷制備三氯氫硅(SiHCl3 );橡膠的氫氯化制備、乙烯基和烷基氯化物的生產(chǎn)等。
氯化氫常見工藝路線
在氯堿工業(yè)上通常使用電解食鹽水的方式制得氫氣和氯氣,接著,氫氣和氯氣混合后通過燃燒器燃燒生成氯化氫氣體。這一方法制得的氯化氫氣體極為純凈,可用來制備高品質(zhì)試劑和應(yīng)用在食品工業(yè)。
國際市場發(fā)展趨勢分析
氯化氫屬于國家重點鼓勵發(fā)展類項目,2018版、2019版《重點新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄》均有提及。隨著微電子工業(yè)向著大尺寸、高集成化、高均勻性和高完整性方向的飛速發(fā)展,對廣泛用于硅外延片和外延機座腐蝕的氯化氫也有了新的要求。除了應(yīng)具有99.999%以上的純度,還要求氯化氫的THC、H2O和金屬離子等有機雜質(zhì)的含量越低越好。
硅外延片下游終端應(yīng)用廣泛,近年隨著新興技術(shù)的出現(xiàn)其下游應(yīng)用不斷拓寬,新興應(yīng)用市場不斷涌現(xiàn)。通信、計算機、消費電子、光伏、智能電網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端應(yīng)用領(lǐng)域的快速發(fā)展以及人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的崛起極大地促進了集成電路和分立器件產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,進而帶動上游硅外延片等半導(dǎo)體硅片需求的快速上升。公開數(shù)據(jù)顯示,2019年,中國硅外延片需求量為3695萬片,同比增長48.9%。
我國12英寸硅外延片的生產(chǎn)能力較弱,且應(yīng)用還不成熟,未來具有較大的開發(fā)空間。從地理位置上看,亞太地區(qū)是氯化氫的主要消費市場。國內(nèi)氯化氫目前以進口為主,貨源主要來自日本、韓國和歐美等國家。隨著應(yīng)用市場需求量不斷擴大和國產(chǎn)化進程的加速,加之國家政策和資本的支持,為氯化氫本土化生產(chǎn)帶來了重大機遇。